• 专利附录
  • 专利说明
  • 权利要求
  • 类似技术
  • 同族专利
  • 引用文献
  • 法律状态
  • 优先权
    • 专利摘要:

    公开号:WO1982004158A1
    申请号:PCT/JP1982/000185
    申请日:1982-05-21
    公开日:1982-11-25
    发明作者:Corp Sony
    申请人:Kawana Takahiro；Yokoyama Norio；
    IPC主号:G11B5-00
    专利说明:
    [0001] 明 細 書
    [0002] 発明の名称 磁気記録媒体
    [0003] 技術分野
    [0004] 本発明は、 磁気記録媒体特に非磁性基体上に金属磁. 性層を被着形成してな る所謂薄膜磁気記録媒体に関し、 特にその金属磁性層の付着力及び耐摩耗性な どの耐久 性を向上せんとする ものであ る。
    [0005] 背景技術
    [0006] 従来、 この種の薄膜磁気記録媒 ^に おいては、 非磁 性基体と金属磁性層 と の間に A£ ， T i な どの異種金属 又は有檨物に よ る違続膜を介在させて金属磁性層の付 着力を上げる よ う に していたが、 十分満足すべき も の ではなかった。
    [0007] 発明の開示
    [0008] この癸明では、 非磁性基体の一主面上に少な く と も 表面が漦化、 窒化又は炭化された金属層を形成し、 さ らに こ の上に金属磁性層を形成し ている。 この発明に よれば、 磁気記録媒体における金属磁性層の耐久性が 向上 （ 従来の数信〜 1 0 数倍向上 ） する ものであ り 、 + 信頼性の高いこの種の磁気記録; ¾体が提供でき る。
    [0009] 図面の簡単な説
    [0010] 第 1 図乃至第 5 図は本発明に よ る磁気記録媒体の一 例を示す工 頓の新面図である。
    [0011] 発明を実旅するための最良の形態
    [0012] OMPI
    [0013] WIPO 以下、 図面を用いて本発明に よ る 気記録媒体をそ の製法と共に詳述する。
    [0014] 本発明においては、 先づ第 1 図に示すよ う に非磁性 基体例え^ iボ リ エ チ レ ンテレ フ タ レ一 ト · ベ ース（1)を 用意し、 こ の べ 一 ス（1)の一主面 （1A) を活性化処理す る。 こ の活性化処理は、 例えば酸素ガスを含む低圧雰 囲気中 （ 真空度 1 0―1〜 1 0 torr ：) でコ π ナ放電に よ り 雰囲気ガスのプラズマを生成し、 このプ ラズマ中で行 う 。 雰囲気の一例と しては Ar 7 0 と 02 3 0 %の混合 ガス で、 02 ガス圧力 1 0 torr の雰囲気 （ 以下雰囲気 (ィ） と称する ） を用い得る。 但し、 こ の活性化処理 に用いる雰囲気ガス と しては鼓素含有ガス に限らずい ずれのガス例えばア ル ゴ ン ガ ス のみでも可能である。
    [0015] 次に、 第 2 図に示すよ う に活性化されたベー ス （1)の 主面 （ 1A) 上に金属本例ではコ バル ト Co の不違続膜即 ち島^: 分（2)を蒸着、 ス パ ッ タ リ ン グ等の方法によつ て形成する。 島状部分（2)の平均膜厚は 1 0 〜 ； L O 0 0 A程 度、 本例では 3 0 0 程度である。 又島状部分（2)に使用 する金属と しては Co の他 A£ , T i 等を使用し得るが、 Co が最も好ま しい。 これは II後形成する金属磁性層 の成分と 冋 じであるために、 1 つの蒸着源ですみ生産 性がよ く なるからである。 又、 蒸鬵の仕方と しては垂 直蒸着、 斜め蒸着のいずれでも よ いが、 斜 蒸着の方 が不 ¾ ^の島状に作 り 易い。 次に、 第 3 図に示すよ う に、 酸化雰囲気 （ 02 含有 ガス 、 例えば純粋 02 ガス 〜 02 ガス 2 0 位含有 （ 残 り は不活性ガス ） ま でのガス ） 、 窒化雰囲気 （ 含 有ガス ） 又は炭化雰囲気 （ ア セ チ レ ン ガス、 エ チ レ ン ガス等 ） 中で、 こ の雰囲気ガス に直流電圧を印加する こ と に よ り プラ ズマを生成せしめ、 このプラ ズマに'島 状に金属層が形成されたベ ー ス フ ィ ル ムを さ らすこ と に よ り 、 島状部分（2)の表面も し く は内部全体を ¾化物、 窒化物又は炭化物（3)と する。 プラズマ条件と し ては、 ガス圧 1 0一1〜 1 0一4 torr の雰囲気ガス を導入し、 印加 電圧を数 1 0 0 V〜数 1 0 0 0 V とする。 本例では前記漦 素含有の雰囲気 （ィ） 中に生成したプ ラ ズマで 理し、 コ バ ル ト の島状部分（2)の表面に コ バ ル ト の酸化物（3)を 形成する。
    [0016] 尚、 第 2 図の工程で鼓化雰囲気、 窒化雰囲気又は炭 化雰囲気中で反応性ィ オ ン ブ レーティ ン グ法あるいは 活性化反応蒸着法に よって、 金属の鼓化物、 窒化物又 は炭化物を島状部分（2)と して形成する こ と も でき る。
    [0017] 次に、 第 4 図に示すよ う に島状部分（2)を含むベース (1)の主面 （ 1A) に金属磁性層（4)を蒸着、 スパ ッ タ リ ン グ等の手段に よって形成する。 金属 性層（4)と しては、 ノレ ト 、 ノレ ト ー - ッ ケ ノレ 、 ある 、 ま ノレ
    [0018] ニ ッ ケ ルに少量の鉄を含んだもの等を使用でき る。 金 属磁性層（4)の膜厚は 7 0 0 〜 2 0 0 0 、 本例では 1 5 0 O'A 程度であ り 、 斜め蒸着で形成する。
    [0019] さらに、 第 5 図に示すよ う に金属 ¾性層（4)の最表面 を プラズマ処理して漦化物、 窒化 又は炭化物等の層 (5)を形成する。 本例では前記^素含有の雰 気 （ィ） 中に生成したプラ ズマで処理して金属磁性層（4)の表面 に酸化物層（5)を形成する。
    [0020] 斯く する こ と に よって目的の ^気記録籙^ (6)を得る c この よ う な磁気記録媒体に よれば、 非 佳のベ ー ス (1)の一主面 （1A) に少 く と も表面が鼓化、 窒化又は炭 化された不連続の島 ^:部分（2)を形成し、 これを介して ベー ス （1 )上に金属磁性層（4)を形成したこ と に よ り、 金 属^性層（4)がべ一ス （1)に対して ϋ g；て付着される もの である。 これは、 島状部分（2)のプラズマ ϋ理に よって 形成された鼓化物、 窒化物又は炭化 ¾ (3)とベ ー ス （1)と の付着力が強固な こ とから、 その上 ¾着さ.れた金属 性層（4)と ベ ー ス （l iと の界面の ^着力が向上する もの と考えられる。 又、 同時に金属 ¾性； 1 )の最表面に ブ ラ ズマ処理に よって ¾化物、 窒化 ¾又は炭化物に よ る 層 ）を形成する と きは金属磁牲署 (4)の 摩耗性が向上 する。
    [0021] 尚、 金属磁性層（4)を斜め蒸着：こて形成する場合には， その蒸着範固の各^に いて蒸気^ ( 蒸着 子の ^ ) のベ ー ス ( この場合テ一ブ状 ） （υへの入射角 ø が一定 と なる よ う に、 所要の 籙上に ¾つてベ ー ス （1)を移動
    [0022] Ο Π して蒸着するを可とする。 こ の よ う に入射角 を一定 とすれば、 予め設定した高保 ¾力 He 及び角形性が得 られ、 且つ蒸着効率も 向上する ものであ る。
    [0023] OMPI
    [0024] ^ W3PO %Λ
    [0025] 、
    权利要求:
    Claims 請 求 の 範 囲
    1. 非磁性支持体と、 その一主面に形成され少 く もそ
    の表面が酸化、 窒化又は炭化された金属層 と、 該金 属層の上に形成された金属 性層 よ り なる磁気記録 媒体。
    2. 非磁性支持体と、 その一主面に島状に形成され少
    く もその表面が酸化、 窒化又は炭化された金属の不 連続層 と、 該不連続層 よび上記非磁性支持体を覆 つて形成された金属 性層 よ り なる磁気記録媒^。
    3. 上記不達読層を形成する金属を コ バ ル ト と した請
    求の範囲第 2項記載の ¾気記録媒体。
    4. 上記不連統層の表面をコ バ ル ト の酸化物と した請
    求の範囲第 3 項記載の磁気記録媒体。
    5. 上記金属 ¾性層をコ パル ト 又は コ バ ル ト を主体と
    する合金と した請求の範圏第 2 項記載の磁気記録 ¾ ^。
    6. 上記金属 性層の表面に該金羼磁性層を構成する
    金属の酸化 ¾、 窒化物又は炭化 ¾の層を形成した請 求の範囲第 2項記載の ¾気記錄媒体。
    7. 上記不¾読層の平均膜厚を 1 0 〜 1 0 0 0 と した請
    求の範囲第 2 項記載の^気記録媒体。
    IPO ι .
    类似技术:
    公开号 | 公开日 | 专利标题
    Milošev et al.1997|Comparison of TiN, ZrN and CrN hard nitride coatings: Electrochemical and thermal oxidation
    Pharr et al.1996|Hardness, elastic modulus, and structure of very hard carbon films produced by cathodic‐arc deposition with substrate pulse biasing
    US5314652A|1994-05-24|Method for making free-standing diamond film
    KR100610298B1|2006-08-10|우수한 내마모성, 내열성 및 기판과의 부착성을 가지는적층 피막 및 그 제조 방법
    Maissel et al.1965|Thin films deposited by bias sputtering
    Xiong et al.1992|Pulsed laser deposition of amorphous diamond-like carbon films with ArF | excimer laser
    US5463271A|1995-10-31|Structure for enhancing electron emission from carbon-containing cathode
    US5645900A|1997-07-08|Diamond composite films for protective coatings on metals and method of formation
    JP4427271B2|2010-03-03|アルミナ保護膜およびその製造方法
    Lifshitz1999|Diamond-like carbon—present status
    US3476586A|1969-11-04|Method of coating carbon bodies and the resulting products
    Fujimoto et al.1993|Formation of carbon nitride films by means of ion assisted dynamic mixing | method
    US6815690B2|2004-11-09|Ion beam source with coated electrode|
    JP2929779B2|1999-08-03|炭素被膜付撥水ガラス
    Wasa et al.2004|Thin film materials technology: sputtering of control compound materials
    US5569362A|1996-10-29|Process for treatment of thin films based upon metallic oxide or nitride
    US7150810B2|2006-12-19|Sputtering target and method for fabricating the same
    Rossnagel et al.1988|Ion beam bombardment effects during films deposition
    US4778582A|1988-10-18|Process for making a thin film metal alloy magnetic recording disk with a hydrogenated carbon overcoat
    US6503373B2|2003-01-07|Method of applying a coating by physical vapor deposition
    US4420385A|1983-12-13|Apparatus and process for sputter deposition of reacted thin films
    US6078133A|2000-06-20|Field emission device having an amorphous multi-layered structure
    US20110220491A1|2011-09-15|Electron-assisted deposition
    US5352493A|1994-10-04|Method for forming diamond-like nanocomposite or doped-diamond-like nanocomposite films
    US7169473B2|2007-01-30|Carbon film-coated article and method of producing the same
    同族专利:
    公开号 | 公开日
    EP0079391A4|1985-10-17|
    GB8301832D0|1983-02-23|
    GB2113898B|1985-05-01|
    EP0079391B1|1987-12-02|
    JPS6218970B2|1987-04-25|
    JPS57191830A|1982-11-25|
    GB2113898A|1983-08-10|
    EP0079391A1|1983-05-25|
    NL8220164A|1983-04-05|
    US4696862A|1987-09-29|
    引用文献:
    公开号 | 申请日 | 公开日 | 申请人 | 专利标题
    法律状态:
    1982-11-25| AK| Designated states|Designated state(s): DE GB NL US |
    1982-11-25| AL| Designated countries for regional patents|Designated state(s): FR |
    1983-01-06| WWE| Wipo information: entry into national phase|Ref document number: 1982901533 Country of ref document: EP |
    1983-05-25| WWP| Wipo information: published in national office|Ref document number: 1982901533 Country of ref document: EP |
    1983-06-01| RET| De translation (de og part 6b)|Ref document number: 3246007 Country of ref document: DE Date of ref document: 19830601 |
    1983-06-01| WWE| Wipo information: entry into national phase|Ref document number: 3246007 Country of ref document: DE |
    1983-07-01| EL| Fr: translation of claims filed|
    1987-12-02| WWG| Wipo information: grant in national office|Ref document number: 1982901533 Country of ref document: EP |
    优先权:
    申请号 | 申请日 | 专利标题
    JP7753981A|JPS6218970B2|1981-05-22|1981-05-22||
    JP81/77539810522||1981-05-22||DE19823246007| DE3246007A1|1981-05-22|1982-05-21|Magnetisches aufzeichnungsmedium|
    GB8301832A| GB2113898B|1981-05-22|1982-05-21|Magnetic recording medium|
    NL8220164A| NL8220164A|1981-05-22|1982-05-21|Magnetisch registreermedium.|
    [返回顶部]